反渗透膜元件的污染问题
反渗透膜元件在经过一段时间的正常使用后，可能会遭遇来自给水中悬浮物质或难溶物质的污染。常见的污染物包括碳酸钙垢、硫酸钙垢、金属氧化物垢、硅沉积物以及有机或生物沉积物。
污染的类型和进程与给水的条件紧密相关。通常情况下，污染过程较为缓慢。如果不及时采取措施，膜元件的性能可能会在较短时间内受到严重损害。
定期检测整个系统的性能是检测膜元件是否发生污染的有效方法。不同的污染物对膜性能造成的影响也有所不同，具体的影响可以参考下表。
针对表中列出的污染物，适用的清洗液如下：
根据现场的具体分析情况，选择适合的清洗液进行处理。
污染物的处理方法
去除污染物的方法包括化学清洗和物理冲洗，有时也可以通过调整运行条件来实现。当出现以下情况之一时，需要进行清洗：
1. 在正常压力下，出水流量下降到正常值的10～15%；
2. 为了维持正常的出水流量，给水压力在经过温度校正后增加了10～15%；
3. 出水水质下降了10～15%，盐透过率增加了10～15%；
4. 使用压力增加了10～15%；
5. RO各段间的压差显著增加（可能没有仪表监测此情况）。
常见污染物及其去除方法
1. 碳酸钙垢
如果阻垢剂或加酸系统发生故障，导致给水pH升高，碳酸钙可能会沉积。早期发现并处理碳酸钙垢可以避免晶体对膜表面的损害。对轻度沉淀的碳酸钙垢，可以将给水pH调整到3.0～5.0范围内，运行1～2小时进行去除。对于沉淀时间较长的碳酸钙垢，则需要使用柠檬酸清洗液进行循环清洗或过夜浸泡。
注意：清洗液的pH值不应低于2.0，以避免对RO膜元件造成损害。特别是在较高温度下，pH值应控制在11.0以下。可以用氨水提高pH值，硫酸或盐酸来降低pH值。
2. 硫酸钙垢
使用三聚磷酸钠溶液（参见表中的三聚磷酸钠溶液）是清除硫酸钙垢的最佳方法。
3. 金属氧化物垢
使用上述去除碳酸钙垢的方法，可以有效去除沉积的氢氧化物（如氢氧化铁）。
4. 硅垢
对于与金属化物或有机物不共生的硅垢，通常需要使用专门的清洗方法来去除。
5. 有机沉积物
有机沉积物（如微生物粘泥或霉斑）可以通过上表所列的清洗液3来去除。为了防止再生长，可以使用杀菌溶液在系统中循环、浸泡，通常需要较长时间的浸泡。如果反渗透装置停用超过三天，最好进行消毒处理。
6. 清洗液
清洗反渗透膜元件时，建议使用表中列出的清洗液。对污染物进行化学分析是确定最佳清洗剂和方法的重要步骤。记录每次清洗的方法和效果，有助于找到适合特定给水条件的最佳清洗方法。
对于无机污染物，推荐使用清洗液1。对于硫酸钙和有机物，推荐使用清洗液2。对于严重的有机物污染，推荐使用清洗液3。所有清洗操作应在不超过40℃的温度下进行60分钟。清洗液的配制应按照每100加仑（379升）加入适量的药品和清洗用水，使用不含游离氯的反渗透产品水配制溶液，并充分混合。
在清洗时，应使用低压大流量的清洗液在膜的高压侧进行循环。膜元件应保持在压力容器内，使用专门的清洗装置进行操作。
清洗反渗透膜元件的步骤
1. 使用泵将干净、无游离氯的反渗透产品水从清洗箱（或其他水源）泵入压力容器，并排放几分钟。
2. 在清洗箱中配制洁净的水和清洗液。
3. 将清洗液在压力容器中循环1小时或设定的时间。对于8英寸或8.5英寸的压力容器，流速应为35~40加仑/分钟（133~151升/分钟）；对于6英寸压力容器，流速应为15~20加仑/分钟（57~76升/分钟）；对于4英寸压力容器，流速应为9~10加仑/分钟（34~38升/分钟）。
4. 清洗完成后，排净清洗箱并进行冲洗，然后在清洗箱中注入干净的水以备下一步使用。
5. 使用泵将干净、无游离氯的水从清洗箱（或其他水源）泵入压力容器，并排放几分钟。
6. 在清洗反渗透系统后，保持排放阀打开状态，运行反渗透系统，直到产品水清洁、无泡沫或无清洗剂（通常需要15~30分钟）。
反渗透膜污染特征及处理方法
1. 细菌污染
一般特征：
脱盐率可能降低，系统压降显著增加，系统产水量明显减少。
清洗方法：
pH值10，2%三聚磷酸钠溶液，0.8%EDTA四钠（严重时更换为0.25%的Na-DDBS），温度40℃；0.1%NaOH和0.03%SDS，pH=11.5。
2. 硫酸钙污染
一般特征：
脱盐率明显降低，系统压降稍有或适度增加，系统产水量稍有降低。
清洗方法：
pH值10，2%三聚磷酸钠溶液，0.8%EDTA四钠（严重时更换为0.25%的Na-DDBS），温度40℃；有时也可用pH小于10的NaOH水溶液进行清洗。
3. 有机物沉淀
一般特征：
脱盐率可能降低，系统压降逐渐升高，系统产水量逐渐减少。
清洗方法：
pH值10，2%三聚磷酸钠溶液，0.8%EDTA四钠（严重时更换为0.25%的Na-DDBS），温度40℃。
4. 氧化物/氢氧化物（铁、镍、铜）污染
一般特征：
脱盐率明显下降，系统压降显著升高，系统产水量明显减少。
清洗方法：
氨水调整pH值至4，2%的
柠檬酸溶液，温度40℃；有时也可以使用pH2-3的盐酸水溶液进行清洗。
5. 无机盐沉淀物污染
一般特征：
脱盐率明显下降，系统压降增加，系统产水量略有降低。
清洗方法：
使用2%柠檬酸溶液，氨水调整pH值至4，温度40℃；也可以用pH2-3（0.5%）的盐酸水溶液进行清洗。
6. 各种胶体（如铁、有机物及硅胶体）污染
一般特征：
脱盐率稍有降低，系统压降稍有上升，系统产水量逐渐减少。
清洗方法：
使用硫酸调pH值至10，0.2%三聚磷酸钠STTP溶液，温度40℃；有时也可以用pH小于10的NaOH水溶液清洗。
常用清洗配方
配方一：
1%-2%柠檬酸溶液或0.4%HCl溶液，适用于铁污染及碳酸盐结晶污堵。
配方二：
0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液，适用于由有机物及活性生物引起的膜组件污染。
配方三：
0.3%HO+0.3%NaOH溶液，适用于由谷氨酸发酵液引起的膜组件污染。
配方四：
1%甲醛溶液，适用于细菌污染的超滤膜。
配方五：
0.5%HNO水溶液，适用于电泳漆处理过程中磷酸铅对膜组件造成的污堵（此清洗必须在其他常规化学清洗之后进行）。
配方六：
20%的NaCO、7%的NaPO、3%的NaOH、0.5%的EDTA，主要用于胶体污染物造成的膜污染。
配方七：
9%的十二烷基苯磺酸钠、9%的表面活性剂、0.4%的NaOH、0.15%的无水碳酸钠、11%的磷酸钠、10%的硅酸钠，清洗时需注意pH的控制，有些膜不适用于高pH清洗液，应谨慎选择，主要用于含油废水造成的膜污染。
配方八：
3%的HPO、0.5%的乙二胺四乙酸二钠、0.5%的LBOW专用清洗剂，主要用于清洗蛋白质和油脂污染物造成的污染。
配方九：
20%的HSO，主要用于硅垢结晶造成的污染。
反渗透膜元件是反渗透设备系统中的核心部分，其日常维护直接影响到系统出水水质。本文概述了反渗透膜的清洗方法，并详细说明了各种污染物的处理方法及适用的清洗液，以帮助维护系统的最佳性能。
（来源：工业水处理整理，纰谬之处请指正）