芯片之争的背后，究竟是光刻机的问题吗？实际上，光刻机是西方顶级工程技术和材料的结晶，代表了技术设计的百年沉淀。当前，我国自主研发的光刻机虽已达到90纳米级别的精度，但与先进的EUV光刻机相比仍有一代的技术差距。最近，在各大视频平台中，有一部关于摩尔定律的科普视频备受关注，让我们一同探索其中的奥秘。
芯片行业乃至近三十年的人类科技进步，皆离不开摩尔定律的支撑。简单来说，摩尔定律使得芯片不断变小成为可能，这才有了如今手机功能超越过去台式电脑的神话。
摩尔定律的发展已接近其极限。每当芯片尺寸进一步缩小，所需的资本投入和研发费用便迅速增加。例如，建造一个能生产14纳米芯片的工厂，其费用将高达百亿美元以上。而目前业界领先的台积电正研发的三纳米制程技术，其研发和资本支出已攀升至千亿美金级别。只有消费端巨大的需求，才能分摊这庞大的研发成本，使其达到可接受的范围。而这巨大的市场需求，正是在全球产业链中的独特优势。
早在21世纪初，摩尔定律的挑战就已经显现。在2001年加入世界贸易后，才得以不断突破这一被质疑的技术瓶颈，使其得以延续至今。如果被剔除出全球科技产业链，那将是对所有产业链上利益相关者的严峻考验。