在全世界的半导体领域中，荷兰的AL公司以其独有技术，成为唯一能够制造EUV光刻机的企业。
目前，全球芯片规模化制造工艺均采用光刻技术。进入7nm及以下制程时，EUV光刻机成为不可或缺的关键设备。它已经成为晶圆厂能否跨入先进制程的重要标志。
鉴于EUV光刻机在芯片制造中的关键地位，曾采取措施限制AL将该设备销售至市场，其中担忧之一便是害怕实现7nm以下制程芯片的自主生产。
近期，有业界人士提及AL的EUV光刻机研发历程，称其耗费了20年时间，投资达1500亿。这引发了人们对于为何只有AL能够制造EUV光刻机的疑问。我们是否也能投入如此巨大的资源和时间来研发这样的设备呢？
事实上，EUV光刻机的垄断并非仅是技术层面的，其背后涉及多方面的因素。
值得一提的是，EUV光刻机的技术并非完全由AL独立研发。其起源可追溯到厂商的联合研发项目。
在浸润式DUV技术之后，当光源波长缩短至134nm时，光刻机厂商们面临了技术路径的选择。在1996年，芯片领域的领军企业英特尔牵头，联合了多家芯片厂商以及实验室，共同研发EUV光刻机技术。
当时，英特尔以其领先的市场地位和财务实力，引领着这项研究。这家巨头企业拨款数十亿美元用于技术研发，并在四年时间里成功地研制出EUV光刻机的雏形模型。尽管只是模型阶段，但在理论上和验证方面均已获得初步成果。
就在量产的前夜，英特尔选择了撤出，它们更倾向于作为一个芯片制造企业的角色，而更倾向于把这一重任交由专业的企业去承担。因此他们找到了AL并委任其制造该技术产品并持全系列技术的独家专利。
这次转交并不容易，因此英特尔参与了AL的早期融资并获得了股权份额。与此台积电和三星也参与了对AL的投资过程，目的是为了确保资金的流动性并保证在经营中仍受主导厂商控制及以将最终用户集中在企业范围内。
直至2013年左右的时间跨度中AL最终得以投产首台EUV光刻机系统并在此之后真正走上了行业垄断地位。
根据推算虽然具体的投资数额未对外公开但相关机构预测其实远超过千亿。由此可见从技术研发到最终产品的生产是一个长期而繁复的过程历时大约十八年从最初Intel的研究到最后AL的生产落地。
AL在推出EUV光刻机时考虑到其复杂的技术背景和重要性因此其业务策略始终围绕三大晶圆厂并兼顾的利益进行布局。
随后AL与一些财团联手将整个EUV光刻机产业链整合在一起形成了一个强大的其中包括了蔡司等公司。
因此对于后来的企业来说要想研发出EUV光刻机不仅需要克服巨大的技术障碍还要重新构建整个产业链原有的产业链已经与AL紧密绑定这无疑增加了难度。
这也是为什么像佳能等企业在研发5nm以下芯片制造工具时选择不研发EUV而是转向NIL、DSA等技术的原因之一重建产业链的复杂性远超过EUV技术的研发。
总的来说AL的EUV光刻机代表着在全球芯片产业中的领先地位为了保持这种地位亦会不遗余力地阻挠其他企业自主研发与竞争。